[发明专利]曝光系统以及物品制造方法在审
| 申请号： | 202010089788.3 | 申请日： | 2020-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN111580358A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 土井贤;大手启介;雨宫靖;金田崇;安斋干人 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括：第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域曝光；第2曝光装置，对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光；标志形成装置，在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部，第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部，根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息，决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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