[发明专利]阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置有效
| 申请号： | 202010102040.2 | 申请日： | 2020-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN111176011B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 安晖;吕艳明;叶成枝;操彬彬;栗芳芳 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 张小勇;刘铁生 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置，涉及显示技术领域。主要采用的技术方案为：第一氧化铟锡膜层的制作方法包括：层叠制作氧化铟锡膜层和金属保护层；于金属保护层背离氧化铟锡膜层一侧制作光刻胶层，采用半灰阶光罩工艺曝光，使光刻胶层形成第一光刻胶区和第二光刻胶区，所述第一光刻胶区对应红色像素区域和绿色像素区域，所述第二光刻胶区对应蓝色像素区域，所述第一光刻胶区的厚度小于所述第二光刻胶区的厚度；第一次刻蚀；灰化处理；第二次刻蚀；将所述第二光刻胶区剥离；将所述氧化铟锡膜层和所述金属保护层退火处理；第三次刻蚀；最终得到第一氧化铟锡膜层。采用本方法制作的阵列基板，可以降低蓝光对眼睛的伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制作方法 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
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