[发明专利]用于生成数据处理模型和版图的方法、设备和存储介质有效
| 申请号： | 202010108722.4 | 申请日： | 2020-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111339724B | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 全芯智造技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/39 | 分类号： | G06F30/39;G06N3/0464;G06N3/0475;G06N3/044;G06N3/094;G06N20/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本公开的示例实施例，提供了用于生成数据处理模型和版图的方法、设备和计算机可读存储介质。用于生成数据处理模型的方法包括获取第一半导体工艺的第一数据集，第一数据集包括与所述第一半导体工艺相关的第一样本版图的图案信息。该方法还包括获取第二半导体工艺的第二数据集，第二数据集包括与第二半导体工艺相关的第二样本版图的图案信息，第一半导体工艺和第二半导体工艺具有至少一个取值相同的属性。该方法进一步包括通过将第一数据集作为原始数据，以及将第二数据集作为目标数据，确定用于生成预测版图的数据处理模型，预测版图与第二半导体工艺相关。以此方式，可以预测新工艺的版图，从而减小新工艺开发的时间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 数据处理 模型 版图 方法 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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