[发明专利]制备电致发光装置的方法有效

专利信息
申请号: 202010119360.9 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN111628113B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 陈慧修;柳宜政;魏丽真 申请(专利权)人: 创王光电股份有限公司
主分类号: H10K71/00 分类号: H10K71/00;H10K59/12;H10K59/35
代理公司: 北京天驰君泰律师事务所 11592 代理人: 孟锐
地址: 中国台湾新竹县30*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 揭示一种制备电致发光装置的方法,包含以下步骤。提供包括第一子像素区及第二子像素区的衬底。透过阴影遮罩在衬底上形成第一发光层,以覆盖第一子像素区及第二子像素区的至少一部分。在衬底上形成牺牲层,其中牺牲层包括一开孔,其暴露出第一发光层位于第二子像素区上方的一部分。移除第一发光层位于第二子像素区上方的所述部分。形成第二发光层于第一牺牲层上方,并透过牺牲层的开孔而形成于第二子像素区上。同时移除牺牲层以及第二发光层位于牺牲层上方的一部分。
搜索关键词: 制备 电致发光 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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