[发明专利]基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质在审
| 申请号： | 202010120395.4 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN111650813A | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 清富晶子;保坂理人;西山直;久野和哉 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质，能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备：存储部，其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据；以及边缘检测部，其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 检查 方法 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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