[发明专利]掩模板的清洗系统和清洗方法在审

专利信息
申请号: 202010121194.6 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN111215398A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 郑立明 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B08B13/00;B08B3/08
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 范坤坤
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明实施例公开了一种掩模板的清洗系统和清洗方法。该掩模板的清洗系统包括:掩模板支撑设备和清洗设备,所述掩模板支撑设备用于支撑掩模板;所述清洗设备用于向所述掩模板的表面吹超声波气体,所述超声波气体为经超声波处理的气体;所述超声波气体的流速大于预设速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污渍。与现有技术相比,本发明实施例在确保对掩模板的清洗效果的基础上,减少了药液用量、减少了产生的废液量以及降低了危险性。
搜索关键词: 模板 清洗 系统 方法
【主权项】:
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