[发明专利]一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法有效
| 申请号： | 202010127468.2 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111331249B | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 江锐;郭馨;王倩;周翊;赵江山;王宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B23K26/046 | 分类号： | B23K26/046;B23K26/06;B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 何丽娜 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法，涉及激光加工技术领域，以优化能量光束的均匀性，提高工件的剥离质量。匀光参数的配置装置包括，用于容纳匀光物质的透光容器，匀光物质具有丁达尔效应。用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数的检测模组。与检测模组通信连接的控制器，控制器用于在光斑均匀性参数满足第一阈值时，根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。本发明还提供采用该配置装置的匀光参数的配置方法，包含有应用上述配置方法配置匀光物质的剥离系统，以及应用该剥离系统的剥离方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 参数 配置 装置 方法 剥离 系统 | ||
【主权项】：
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