[发明专利]一种旋转式冲洗烘干装置在审
| 申请号： | 202010149358.6 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111383965A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 田英干;田一 | 申请（专利权）人： | 天霖（张家港）电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 周超 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于冲洗烘干设备领域，具体公开了一种旋转式冲洗烘干装置，包括机座、清洗架、液箱、支撑壳体、清洗机构，支撑壳体、清洗架均固装于机座端面，清洗架内侧装设有清洗机构，清洗架顶部固装有液箱；支撑壳体置于清洗架内侧，支撑壳体两侧均连接有固定基座，支撑壳体顶部安装有固定架；清洗机构包括驱动组件、清洗刷、箱体与冲洗架，箱体固装于清洗架顶部两侧，箱体内设有转动盘；驱动组件具有电机、转动杆与传动杆，电机固装在支撑壳体顶端，电机输出端连有转动杆。本发明通过对晶圆进行先清洗后烘干，使得晶圆干进干出，避免了晶圆在工艺过程中受外外部环境的污染，节约了设备占用的场地，通过冲洗与刷洗实现更好的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 冲洗 烘干 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天霖（张家港）电子科技有限公司，未经天霖（张家港）电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010149358.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
