[发明专利]一种容性耦合结构和介质滤波器在审
| 申请号： | 202010150938.7 | 申请日： | 2020-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111370818A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 龙志勇 | 申请（专利权）人： | 广东国华新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01P1/20 | 分类号： | H01P1/20;H01P11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 黄忠 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔；第一盲孔和第二盲孔连接且呈T型分布；第一盲孔的深度和第二盲孔的深度不相同。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耦合 结构 介质 滤波器 | ||
【主权项】：
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