[发明专利]半导体存储器装置在审

专利信息
申请号: 202010158789.9 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN112542461A 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 山下徹也;中山沢阳;市川尚志;上地忠良;泉田贵士 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/1157;G11C16/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据一个实施例,一种半导体存储器装置包含:第一堆叠主体,其中多个第一导电层在半导体衬底上方沿第一方向以一定间隔堆叠;第二堆叠主体,其中多个第二导电层在所述半导体衬底上方沿所述第一方向以一定间隔堆叠;以及第一缝隙,其沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸,所述第一缝隙沿垂直于所述第一和第二方向的第三方向隔离所述第一堆叠主体和所述第二堆叠主体。
搜索关键词: 半导体 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
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