[发明专利]光学试验用装置及半导体试验装置在审
| 申请号： | 202010167792.7 | 申请日： | 2020-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN111913186A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 菅原聪洋;增田伸;樱井孝夫;松村英宜;关孝生 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱德万测试 |
| 主分类号： | G01S17/08 | 分类号： | G01S17/08;G01S7/481 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;李平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学试验用装置，防止在取得反射光的器具的试验时，该器具与测量对象的距离变长。在试验光学测量器具(2)时使用光学试验用装置(1)，光学测量器具(2)将来自光源(2a)的入射光提供到入射对象(4)，并取得入射光被入射对象(4)反射后的反射光。光学试验用装置(1)具备：光检测器(1a)，其接收入射光；以及激光二极管(1c)，其在自光检测器(1a)接收入射光起经过预定的延迟时间后，将光信号提供到入射对象(4)。光信号被入射对象(4)反射后的反射光信号提供到光学测量器具(2)。延迟时间大致等于实际使用光学测量器具(2)的情况下的从由光源(2a)照射入射光到通过光学测量器具(2)取得反射光的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 试验 装置 半导体 试验装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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