[发明专利]三维存储器及其制备方法有效
申请号: | 202010172216.1 | 申请日: | 2020-03-12 |
公开(公告)号: | CN111370411B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 闾锦;雷涛 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H10B41/30 | 分类号: | H10B41/30;H10B41/27;H10B43/30;H10B43/27 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请公开了一种三维存储器及其制备方法。三维存储器包括衬底,且衬底为N型掺杂半导体结构;位于衬底上的绝缘层;及位于绝缘层上的堆叠层,堆叠层内设有贯穿堆叠层与绝缘层的沟道孔,沟道孔内形成存储结构,存储结构沿沟道孔轴向设置,且与衬底电性连接;其中,堆叠层包括多层交替堆叠设置的栅极层及介质层,绝缘层的厚度大于一层栅极层与一层介质层的厚度之和。本申请提供的三维存储器在衬底与堆叠层之间设一层绝缘层,避免了衬底内的电子在热作用下扩散至堆叠层最底部的栅极层,从而保证三维存储器的性能。 | ||
搜索关键词: | 三维 存储器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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