[发明专利]曝光机及曝光方法在审
| 申请号： | 202010176633.3 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN113391521A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 邹斌 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体领域，公开了一种曝光机及曝光方法。本发明中，曝光机包括：检测模块，所述检测模块用于检测掩膜板表面是否存在附着物；清洁装置，所述清洁装置用于对所述掩膜板表面的所述附着物进行清洁；曝光模块，所述曝光模块用于对检测到不存在所述附着物的所述掩膜板进行曝光作业。与现有技术相比，本发明实施方式所提供的曝光机及曝光方法具有提升曝光机工作效率的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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