[发明专利]蒸镀掩模的制造方法有效
| 申请号： | 202010180279.1 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN111705296B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 中尾健次;田畠弘志;佐藤晶仁 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 邸万杰;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸镀掩模的制造方法。多次扫描曝光(SE)包括彼此相邻的扫描区域的端部重叠的第1扫描曝光(SE1)和第2扫描曝光(SE2)。第1扫描曝光(SE1)所划定的一组高溶解区域(34)包括第1高溶解区域(34A)。第2扫描曝光(SE2)所划定的一组高溶解区域(34)包括第2高溶解区域(34B)。在第1扫描曝光(SE1)中，在多行的彼此相邻的一对行(L1、L2)中，将第1高溶解区域(34A)划定于避开沿第1方向(D1)的直线方向而在倾斜方向上偏离的位置。在第2扫描曝光(SE2)中，在一对行(L1、L2)中，将第2高溶解区域(34B)划定于在倾斜方向上偏离的位置。由此能够形成高精度的蒸镀掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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