[发明专利]一种像素化转光层及其制备方法有效
| 申请号： | 202010186060.2 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN113410370B | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 钟海政;孟令海;施立甫;王晶晶;李劲 | 申请（专利权）人： | 致晶科技（北京）有限公司;北京理工大学 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H10K59/38;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 张梅娟 |
| 地址： | 100081 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种像素化转光层及其制备方法，所述方法至少包括：获得含有像素槽的基板；将含有发光材料前驱体的溶液转移到基板的像素槽内，发光材料前驱体原位生成发光材料，得到填充发光材料的基板；在上述基板表面涂覆封装材料，得到像素化转光层。本发明只需将发光材料前驱体直接填入基板像素槽内，封装，即可实现钙钛矿纳米晶的像素化图案制备，省去了后续的打印和封装工序，降低了成本，得到的封装好的图案化钙钛矿纳米晶可以作为彩色转光层，低成本实现了显示器件的彩色化显示。本发明提供了一种新的面向显示的钙钛矿纳米晶图案化技术，无需配制专门的钙钛矿纳米晶墨水，也无需复杂的打印设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 像素 化转光层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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