[发明专利]阵列基板及其制造方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202010192614.X 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN113437086A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 左文霞;李方泽 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 上海隆天律师事务所 31282 代理人: 范亚红;钟宗
地址: 201506 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请提供一种阵列基板及其制造方法和显示装置,其中,阵列基板包括:显示区域以及围绕于显示区域的非显示区域;非显示区域设置有多条数据走线和多条扫描走线,多条扫描走线与多条数据走线相互绝缘,且具有至少一个交叠区域;其中,与扫描走线交叠设置的数据走线包括第一线段和第二线段,第二线段位于数据走线与扫描走线的交叠区域,第二线段的一端通过第一跳线结构与显示区域的数据线电性连接,第二线段的另一端通过第二跳线结构与第一线段的其中一端电性连接,第一线段的另一端与数据驱动电路连接。在本申请提供的阵列基板及其制造方法和显示装置中,通过在数据走线与扫描走线的交叠区域采用转接孔跳线设计,实现ESD的有效防护。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
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