[发明专利]平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010202266.X 申请日: 2020-03-20
公开(公告)号: CN113308666B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 庾弘宇 申请(专利权)人: 皮姆思株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 代理人: 罗银燕
地址: 韩国仁川市防筑*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法,包括:准备步骤,准备四边框形态的框架及薄膜掩膜;冲压步骤,通过以上述框架的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的矫正力来塑性变形规定间隔;以及掩膜拉伸接合步骤,拉伸上述掩膜,来使其与受到上述矫正力的框架相接合。据此,在四边框形框架拉伸薄膜掩膜来接合而成的薄膜蒸镀用掩膜组装体,通过提供以框架的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的矫正力,可使掩膜应力与框架应力相互抵消。结果,可尽可能提高掩膜拉伸力,并可提高掩膜下垂减少效果,与掩膜拉伸力的增加无关地,可改善掩膜组装体的平坦度。
搜索关键词: 平坦 得到 改善 薄膜 蒸镀用掩膜 组装 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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