[发明专利]一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用在审
| 申请号： | 202010209656.X | 申请日： | 2020-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113430070A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 王溯;蒋闯;史筱超 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/94 | 分类号： | C11D1/94;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/60;H01L21/02;B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用。本发明的半水基清洗液由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：5％‑70％的溶剂、0.5％‑20％的醇胺、0.1％‑20％的季铵碱、0.1％‑15％的缓蚀剂、0.1％‑10％的钝化剂、0.01％‑20％的螯合剂、0.1％‑10％的两性表面活性剂、0.1％‑10％的非离子型表面活性剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比。本发明的半水基清洗液能适应CoWP等金属环境，对多种金属及电介质的缓蚀性强，清洗效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cowp 兼容性 半水基 清洗 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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