[发明专利]具有空气间隙的局部互连在审
申请号: | 202010219087.7 | 申请日: | 2020-03-25 |
公开(公告)号: | CN112038324A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 林启文;S.B.克伦登宁;T.A.特罗尼克;U.阿兰;E.曼内巴赫 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L23/528 | 分类号: | H01L23/528;H01L21/768 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;申屠伟进 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了具有空气间隙的局部互连。一种集成电路包括包含绝缘介电体的基底。多个导线以间隔开的布置在所述基底上方垂直延伸,所述多个导线包括第一导线和与第一导线相邻的第二导线。空隙在第一与第二导线之间。绝缘材料盖体位于所述空隙上方并且限定所述空隙的上边界,使得所述空隙进一步位于所述基底与所述绝缘材料盖体之间。在一些实施例中,一个或多个通孔接触导线中的一个或多个的上端。 | ||
搜索关键词: | 具有 空气 间隙 局部 互连 | ||
【主权项】:
暂无信息
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