[发明专利]沉积装置以及利用该沉积装置的基板处理方法在审

专利信息
申请号: 202010221358.2 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN112779521A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 文成培;柳成龙;郑鸿基;崔相准;金永旼;李京美 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/34
代理公司: 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 代理人: 朴英淑
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供可降低基板处理中的不良发生率的沉积装置以及利用该沉积装置的基板处理方法,沉积装置具备:腔体;导电性的销,位于所述腔体内,且上下延伸;导电性的基座,位于所述腔体内,且具有所述销通过的贯通开口;以及导电性的套管,位于所述基座的所述贯通开口内且被固定成与所述基座电连接,并且具有所述销通过的贯通孔,且还具有与所述销接触的导电性的接触部。
搜索关键词: 沉积 装置 以及 利用 处理 方法
【主权项】:
暂无信息
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