[发明专利]一种刻蚀液及其制备方法有效
| 申请号： | 202010223967.1 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN111334299B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 李广圣;蒋雷;黄学勇;叶宁;刘翔;赵亚雄 | 申请（专利权）人： | 成都中电熊猫显示科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 文小莉;臧建明 |
| 地址： | 610200 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种刻蚀液及其制备方法，该刻蚀液按照质量百分含量包括以下组分：1～20％双氧水；0.01～5％无机酸；0.01～5％双氧水稳定剂；1～10％pH调节剂；1～10％络合剂；0.01～2％金属缓蚀剂；以及余量水；其中，所述无机酸中至少包括氟类化合物。该刻蚀液能够同时实现源漏极金属电极和金属氧化物膜层的刻蚀，在不影响半导体器件性能下实现了光罩使用数量的减少，降低了材料成本，简化了工艺流程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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