[发明专利]光刻设备和光刻工艺中的方法在审
| 申请号： | 202010227073.X | 申请日： | 2016-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN111352309A | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | J·P·克罗斯;K·N·S·库特奥;R·埃尔鲍布希;R·J·T·鲁滕;P·J·C·H·斯姆德斯;M·L·P·维瑟;J·S·C·韦斯特拉肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光刻设备中的部件，所述部件具有表面，所述表面面对另一部件的另一表面，所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动，其中所述表面容纳有屏障系统，所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障，所述屏障系统包括：至少一个第一开口，适于第一气体从其流动，以用于建立包围被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘；和至少一个第二开口，相对于被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动，以用于被夹带到第一气体的流动中；其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 工艺 中的 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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