[发明专利]带有具有曲率半径的存储节点的非易失性存储器在审

专利信息
申请号: 202010230752.2 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN112151550A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: R·J·科瓦尔;H·T·梅布拉图;K·K·帕拉特 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘文灿
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 描述了存储节点配置。存储节点(例如,三维(3D)NAND闪存设备的浮栅或电荷捕获层)包括具有曲率半径的面向沟道的表面。例如,存储节点的面向沟道的表面可以是凹形的。存储节点的面向控制栅的表面可以替代地或附加地还包括曲率半径。存储节点的面向沟道的表面和/或面向控制栅的表面的曲率半径小于或等于沟道层的半径。
搜索关键词: 带有 具有 曲率 半径 存储 节点 非易失性存储器
【主权项】:
暂无信息
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