[发明专利]红外探测器芯片的接触电极制备方法在审

专利信息
申请号: 202010235091.2 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN111403502A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 刘世光;张轶;谭振;周立庆 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/09;H01L31/101;H01L31/18
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 张然
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种红外探测器芯片的接触电极制备方法,所述方法,包括:在钝化层表面涂覆光刻胶,并进行光刻及显影,形成适于制备接触孔的光刻胶图形;腐蚀钝化层;对钝化层远离碲镉汞的一侧进行金属电极蒸镀;去除光刻胶以及附着于光刻胶上的金属层。采用本发明,结合了钝化层腐蚀工艺和电极剥离工艺,避免了工艺过程中对碲镉汞和钝化层的损伤,并减少了光刻次数,减少了工艺步骤,而且巧妙利用了钝化层腐蚀的侧向腐蚀、大大降低了剥离的工艺难度,提升了成品率。
搜索关键词: 红外探测器 芯片 接触 电极 制备 方法
【主权项】:
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