[发明专利]高选择性氯磺隆磁性分子印迹聚合物的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202010237526.7 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN111269418B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 何金兴;路悦;吕蕾;赵涛;李迎秋 申请(专利权)人: 齐鲁工业大学
主分类号: C08G73/06 分类号: C08G73/06;C08K3/04;C08K3/22;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;G01N30/02;G01N30/06
代理公司: 北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11560 代理人: 江莉莉
地址: 250353 山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种高选择性的氯磺隆磁性分子印迹聚合物的制备方法及应用。在制备该分子印迹聚合物时,以磁性氧化石墨烯为载体,氯磺隆为模板,基于多巴胺在碱性环境中自聚合制备获得。与传统分子印迹聚合物制备方法相比,本发明的方法无需引入具有生物毒性的交联剂及引发剂,整个合成是在环境温度下的水溶液中进行的,对环境友好。所得到的磁性分子印迹聚合物对氯磺隆具有显著的选择性识别性能、较高的吸附容量、较快的平衡时间和解吸速率。将其作为吸附剂材料,在外加磁场条件下应用于谷物样品中磺酰脲类除草剂残留的专一性识别、高效分离及富集。同时,该聚合物材料可以多次循环利用,降低检测成本,具有良好的实际应用价值。
搜索关键词: 选择性 氯磺隆 磁性 分子 印迹 聚合物 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于齐鲁工业大学,未经齐鲁工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010237526.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top