[发明专利]一种硅片承载装置及边缘抛光设备

摘要

本发明提供一种硅片承载装置及边缘抛光设备，所述装置包括：底座，所述底座内部形成有一真空腔，所述底座的上表面形成有一环形凸缘，所述环形凸缘的环口与所述真空腔导通；多孔吸盘，所述多孔吸盘嵌设于所述环形凸缘的环口内，所述多孔吸盘具有若干贯穿所述多孔吸盘的上表面和下表面的吸附孔，所述多孔吸盘用于吸附硅片；真空管道，所述真空管道与所述真空腔连通，用于对所述真空腔进行抽真空。根据本发明实施例的硅片承载装置，可以解决长时间吸附硅片而导致硅片吸附面产生吸附痕迹的问题，提高了硅片生产良率。