[发明专利]清洁溶液、清洁半导体基板的方法以及制造半导体装置的方法

摘要

一种清洁溶液包括：具有25δd13、25δp3、及30δh4的Hansen溶解度参数的第一溶剂；具有‑11pKa4的酸解离常数的酸、或具有40pKa9.5的酸解离常数的碱；及界面活性剂。界面活性剂为离子界面活性剂、聚环氧乙烷及聚环氧丙烷、非离子界面活性剂、及组合中的一或多者。离子界面活性剂选自由以下组成的群组:R为经取代或未经取代脂族、脂环、或芳族基团，并且非离子界面活性剂具有A‑X或A‑X‑A‑X结构，A为未经取代或经氧或卤素取代、分支或无分支、环状或非环状、饱和C2‑C100脂族或芳族基团，并且X包括选自以下的极性官能基：–OH、＝O、‑S‑、‑P‑、‑P(O2)、‑C(＝O)SH、‑C(＝O)OH、‑C(＝O)OR‑、‑O‑；‑N‑、‑C(＝O)NH、‑SO2OH、‑SO2SH、‑SOH、‑SO2‑、‑CO‑、‑CN‑、‑SO‑、‑CON‑、‑NH‑、‑SO3NH‑、SO2NH。