[发明专利]曲线图形光学邻近修正方法有效
| 申请号： | 202010280525.0 | 申请日： | 2020-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN111367149B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 陈世杰;黄增智;郭进 | 申请（专利权）人： | 联合微电子中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 401332 重庆市沙坪*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曲线图形光学邻近修正方法，在对导入的原始设计图形进行光学邻近修正后，在进行设计规则检查前，对曲线图形边线进行直角切割处理以形成标准图形边线；所述直角切割处理包括采用多条相互连接的沿水平或垂直方向延伸的边线拟合所述曲线图形边线。本发明通过对硅光器件的曲线图形进行直角切割处理，形成标准图形边线，使版图图形符合常规光掩模版标准，在确保光学邻近修正结果接近原始图形的同时，降低光掩膜版生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曲线 图形 光学 邻近 修正 方法 | ||
【主权项】：
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