[发明专利]光掩模盒及其耐磨件在审
申请号: | 202010291475.6 | 申请日: | 2020-04-14 |
公开(公告)号: | CN113433793A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 邱铭乾;盛剑平 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;H05F1/00;H01L21/673 |
代理公司: | 深圳市舜立知识产权代理事务所(普通合伙) 44335 | 代理人: | 侯艺 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种光掩模盒及其耐磨件,特别是一种具有耐磨件的光掩模盒。其中,该光掩模盒为一种大尺寸光掩模盒且为直立式,用以容置光掩模,主要包括一上盖体与一盒体,该盒体用以与该上盖体组合,形成一内部空间可容纳一光掩模。该盒体外设置有一导位块,该导位块可以协助导正盒体与上盖体的相对位置,该盒体内接触直立式光掩模的接触面设置有至少一卡槽,而该卡槽上设置有至少一耐磨组。其中,该耐磨组更包括一设置于卡槽上部的第一耐磨件以及一设置于该卡槽下部的第二耐磨件。 | ||
搜索关键词: | 光掩模盒 及其 耐磨 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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