[发明专利]一种掩膜板及其制备方法和采用其的蒸镀方法在审
| 申请号： | 202010294640.3 | 申请日： | 2020-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN111394690A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 熊自阳;赖韦霖;鲍建东 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;冯建基 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板及其制备方法和采用其的蒸镀方法。该掩膜板包括框架和掩膜网，框架包括边框和连接边框的至少一个支架，支架将边框围设形成的区域分隔为至少两个张网区；掩膜网包括至少两个，各掩膜网分别对应张网于各张网区，且掩膜网的四周边缘均分别与围设形成张网区的框架固定连接。该掩膜板，通过支架将边框围设形成的区域分隔为至少两个张网区，能够使掩膜板张网区域的面积缩小，从而减小了掩膜网在张网过程中发生褶皱的风险，且能够实现掩膜网的四边张网，四边张网能够大大改善掩膜网由于重力过大而发生下垂的现象，提升采用该掩膜板的蒸镀精度，从而改善阴影效应和混色风险，提高采用该掩膜板的蒸镀质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 采用 | ||
【主权项】：
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