[发明专利]一种基于液晶光闸掩膜的巨量转移方法及转移装置

摘要

本发明公开了一种基于液晶光闸掩膜的巨量转移方法，包括下述步骤：转移准备：液晶光闸掩膜基板设置在透光基板的上方；选择对齐：移动液晶光闸掩膜基板和透光基板，对齐透光基板的待转移的晶片的位置与接受基板的待接收的晶片的位置；导通释放：开启激光，导通液晶光闸掩膜基板的至少一对电极，与导通的电极相对的液晶光闸掩膜基板允许透过激光，激光作用在黏合层使黏合层的粘附作用降低，待转移的晶片脱落至接受基板的待接收的晶片的位置；持续释放；本申请旨在提供一种基于液晶光闸掩膜的巨量转移方法及转移装置，可用于巨量转移Micro‑LED晶片或其他精细元件，成本低，易操作，优良率高，效率高。