[发明专利]阵列基板制备方法及成膜系统

摘要

本申请提供一种阵列基板的制备方法及成膜系统，该制备方法包括步骤A：一制备腔室将金属粒子沉积在基底上，直至所述基底的实时温度大于第一设定温度为止，以在所述基底上形成一金属层；步骤B：将所述基底转移至冷却腔室；步骤C：所述冷却腔室降低所述基底的温度；步骤D：当所述基底的实时温度小于第二设定温度时，将所述基底转移至另一制备腔室；步骤E：所述另一制备腔室将所述金属粒子沉积在所述金属层上，直至所述基底的实时温度所述大于第一设定温度为止，以在所述基底上形成另一金属层。本申请通过将目标厚度的金属叠层分成至少两次堆叠形成，降低了每次沉积金属粒子的时长，以降低基底受热温度，进而避免基底因受热过高而发生翘曲。