[发明专利]基板处理设备和基板处理方法有效
| 申请号： | 202010330800.5 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN111850463B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 板桥真澄;川角保志;贵志悦朗 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/56;C23C16/04;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/67;H10K71/10 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下，所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差，然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前，所述可动构件移动到预定位置。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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