[发明专利]线宽标准样片的线宽量值确定的方法及系统有效

专利信息
申请号: 202010333627.4 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111578848B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 韩志国;李锁印;梁法国;冯亚南;张晓东;赵琳;许晓青;吴爱华 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 付晓娣
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明适用于微纳米测量仪器计量技术领域,提供了一种线宽标准样片的线宽量值确定的方法及系统,该方法包括:对椭偏仪进行校准;建立基于多层膜沉积工艺的多层膜厚样片测量模型,并在所述多层膜厚样片测量模型建立过程中对初次校准后的椭偏仪进行再次校准;基于多层膜沉积工艺沉积多层膜厚样片;采用再次校准后的椭偏仪,对所述多层膜厚样片的薄膜厚度进行测量,得到测量结果,并将所述测量结果作为线宽标准样片的线宽量值,从而可以确定纳米级线宽标准样片的量值,提高纳米级线宽标准样片定值的准确度。
搜索关键词: 标准 样片 量值 确定 方法 系统
【主权项】:
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