[发明专利]一种结合图形匹配的OPC修正方法有效
申请号: | 202010336793.X | 申请日: | 2020-04-26 |
公开(公告)号: | CN111505898B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 雷海波;乔彦辉;田明;王丹;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种结合图形匹配的OPC修正方法,提供图形库,对图形库中多个图形作常规OPC,得到第一掩膜层和第一目标层;根据第一掩膜层中每个分段与第一目标层中相应分段的距离差算出每个分段的偏移值,将该偏移值对应到图形的相应分段形成数据库;输入待执行OPC的版图,以该版图中的图形层为第二目标层,通过图形对第二目标层作图形匹配,再将得到匹配的图形根据数据库做分段和偏移,形成光罩前的迭代层;以第二目标层作目标层、以光罩前的迭代层作修正层执行基于模型的OPC修正,经迭代后得到目标轮廓的第二掩膜层。本发明能通过降低基于模型的OPC修正的迭代次数,提高修正效率,来降低OPC整体的运算时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 结合 图形 匹配 opc 修正 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备