[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示装置有效
| 申请号： | 202010339293.1 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN111509135B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 梅文海 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H10K50/115 | 分类号： | H10K50/115;H10K50/10;H10K59/12;H10K59/17;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 姚楠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，电致发光二极管包括层叠设置的阳极和阴极以及位于阳极和阴极之间的发光功能层。并且，发光功能层包括多层量子点发光层以及位于每相邻两层量子点发光层之间的有机隔绝层；在垂直于衬底基板且由阳极指向阴极的方向上，发光功能层中的各层的HOMO能级呈现台阶式由高到低变化，以使空穴更容易跃迁。通过将发光功能层进行多膜层化，可以使相邻的量子点发光层之间的势垒减小。以及，通过在相邻两层量子点发光层之间添加一层有机隔绝层，可以阻止量子点发光层之间的互溶，也可以将未在量子点发光层复合的激子以能量转移的方式传递给量子点，以扩大载流子复合区域，改善载流子传输和平衡。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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