[发明专利]一种用于单晶生长的高纯碳化硅粉体制备方法在审

专利信息
申请号: 202010342701.9 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111484019A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 马康夫;魏汝省;李斌;王英民;赵丽霞;侯晓蕊;周立平;毛开礼;徐伟;王利忠;戴鑫;张辰宇;李刚;方芃博 申请(专利权)人: 山西烁科晶体有限公司
主分类号: C01B32/984 分类号: C01B32/984;C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 代理人: 崔雪花;冷锦超
地址: 030006 山西省太*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种用于单晶生长的高纯碳化硅粉体制备方法;属于半导体材料技术领域;技术方案是选择高纯石墨粉、高纯Si粉和聚四氟乙烯粉混合后置于加热炉中,向炉腔内注入高纯H2,保持一定时间后抽真空;加热炉升温至850‑990℃,再次注入高纯H2,保持一定时间后再次抽真空,之后再次升温至1000℃‑1200℃,进行SiC合成反应得到高纯β‑SiC粉体;继续将高纯H2、高纯Ar与高纯HCl注入炉腔,升温至1900℃‑2100℃进行转化合成反应得到高纯α‑SiC粉体;本发明通过提高环境纯度以及限定工艺参数有效提高最终碳化硅粉体的纯度,适用于高纯半绝缘碳化硅的单晶生长。
搜索关键词: 一种 用于 生长 高纯 碳化硅 体制 方法
【主权项】:
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