[发明专利]一种IC版图设计中任意角度图形的生成方法有效
| 申请号： | 202010342969.2 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN111460755B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 胡传菊 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F111/20 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 耿英 |
| 地址： | 215163 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种IC版图设计中任意角度图形的生成方法，包括以下步骤：1）确定旋转角度和级数；2）计算电子转弯半径、角度；3）在沟道截止层上绘制两个同心圆环；4）绘制旋转等角度的射线；5）产生间隙的图形；6）得到所需的拐角单元。用户可在Virtuoso软件中根据这一方法，结合Virtuoso自带的图形处理工具，画出任意级数的拐角单元，形成0度到360度的任意角度的扇形图形，图形中不同层次所占的面积可按比例分配。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ic 版图 设计 任意 角度 图形 生成 方法 | ||
【主权项】：
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