[发明专利]一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法在审

专利信息
申请号: 202010343114.1 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111424727A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 白向臣;钱琨;王力玮;刘习生;穆保岗;韩峰;彭宇一 申请(专利权)人: 中铁上海工程局集团华海工程有限公司;无锡地铁集团有限公司
主分类号: E02D31/00 分类号: E02D31/00
代理公司: 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 代理人: 吴玮;徐成泽
地址: 201101 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及基坑施工技术领域,具体来说是一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构及施工方法,在待施工的基坑与临近桩基之间设有凹槽,凹槽内设有压力水囊,压力水囊具有三层结构,由内至外依次为内层、抗拉中层和弹性外层,所述的内层由具有气密性和水密性的材料制成。本发明同现有技术相比,其优点在于:密集城区进行基坑施工情况下,通过凹槽和压力水囊的设置能有效减少基坑降水导致邻近桩基中产生的负摩阻力,同时能有效减少基坑施工引起的周围土体水平位移对邻近桩基的影响,通过对压力水囊充放水能施加压力或者减少压力,以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移,从而可大幅度减少基坑开挖对周边建筑的影响,降低施工成本,提高施工效率。
搜索关键词: 一种 减少 基坑 施工 临近 桩基 影响 结构 方法
【主权项】:
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