[发明专利]一种掩膜版的缺陷修复方法

摘要

本发明涉及一种掩膜版的缺陷修复方法，提供掩膜版；于显微镜下寻找所述掩膜版上的缺陷，再在缺陷周围形成非水溶性涂料圈；向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加水系去胶液，去除非水溶性涂料圈所围区域的光刻胶，然后去除非水溶性涂料圈内的水系去胶液；向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加铬腐蚀液，修复缺陷；将修复缺陷后的掩膜版置于去胶液中去除版面的光刻胶；去除版面的非水溶性涂料圈；对掩膜版进行清洗，获得修复后的掩膜版。本发明的修复方法，无需二次匀胶光刻去除缺陷，在检验缺陷的同时用非水溶性涂料圈出缺陷，将所有缺陷标识出，同时去胶后去残铬，该方法简单易操作，降低掩膜版的制造成本，提高良率及利用率，提高经济效益。