[发明专利]低维高亮绿光发射InGaN基异质结二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010361146.4 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111613705A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 姜明明;刘洋;阚彩侠;万鹏;周祥博;马琨傑;唐楷 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: H01L33/26 分类号: H01L33/26;H01L33/00
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 秦秋星
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型低维高亮绿光发射InGaN基异质结二极管及其制备方法,此绿光发射二极管由6个部分组成:(a)蒸镀在p‑InGaN衬底上的Ni/Au电极;(b)p‑InGaN衬底;(c)蓝宝石衬底;(d)金属In电极;(e)n‑ZnO:Ga微米线;(f)石英衬底。本发明采用载流子浓度高,导电性能优异的Ga掺杂n‑ZnO微米线,将单根n‑ZnO:Ga微米线与p‑InGaN(禁带宽度为2.30eV)衬底相结合构筑异质结发光二极管。此发光二极管展现出了良好的整流特性,在此二极管两端施加偏压时,出现了高强、稳定的绿光发射,促进了绿光二极管在生产生活中的应用。
搜索关键词: 低维高 亮绿 发射 ingan 基异质结 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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