[发明专利]一种掩模台、曝光装置和光刻设备有效
| 申请号： | 202010367743.8 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113589652B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 杨若霁;苏同克 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种掩模台、曝光装置和光刻设备，该掩模台包括承版台、至少三个支撑固定单元和至少三个形变补偿单元；其中，承版台包括透光区和围绕透光区的非透光区；至少三个支撑固定单元设置于承版台的非透光区，且各支撑固定单元均匀分布于透光区的周围；至少三个形变补偿单元设置于承版台的非透光区，且位于支撑固定单元靠近透光区的一侧；各形变补偿单元均匀分布于透光区的周围。本发明实施例提供的掩模台结构简单，能够减小放置于该掩模台上的掩模版在水平方式和竖直方向上的形变，从而能够提高曝光精度，提高光刻准确度，进而提高产品良率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩模台 曝光 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010367743.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种智能垃圾箱
- 下一篇：输入方法、装置和用于输入的装置
