[发明专利]一种半导体工艺设备

摘要

本发明提供一种半导体工艺设备，包括工艺腔室、承载盘、支撑柱、升降组件和调节组件，所述承载盘设置在所述工艺腔室内，所述支撑柱与所述承载盘相连并支撑所述承载盘，所述升降组件通过所述调节组件与所述支撑柱相连，所述升降组件能够带动所述调节组件升降。所述调节组件具有安装表面，所述支撑柱设置在所述安装表面上，所述安装表面与参考面之间的角度能够被调节，并且所述调节组件的安装表面能够带动所述支撑柱沿参考面运动，以调节所述承载盘的位置。在本发明中，调节组件直接通过支撑柱连接承载盘，升降组件可以与工艺腔室固定连接，从而提高了承载盘的稳定性，进而提高了设备的生产效率。