[发明专利]去除半导体设备不锈钢部件钛及氮化钛沉积膜的工艺有效
| 申请号： | 202010407235.8 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN111534825B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 朱光宇;贺贤汉;李泓波;王松朋 | 申请（专利权）人： | 富乐德科技发展（大连）有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/08 | 分类号： | C23G1/08;C23G3/00;B24B27/033;B24C1/06;C23C14/22 |
| 代理公司： | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 盖小静 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市保税区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去除半导体设备不锈钢部件钛及氮化钛沉积膜的工艺，属于半导体设备部件清洗翻新技术领域，包括配置IPA溶液，所述IPA溶液液位高于待去膜不锈钢部件；将待去膜不锈钢部件浸泡在IPA溶液中；配置氢氟酸及硝酸的混合酸溶液a；把待去膜不锈钢部件浸泡在混合酸溶液a中；进行高压水洗；将待去膜不锈钢部件外侧光滑面进行打磨抛光；将待去膜不锈钢部件放入氢氟酸及硝酸的混合酸溶液b中一段时间；对待去膜不锈钢部件进行高压水洗；高压水洗后将待去膜不锈钢部件进行烘干。该工艺在充分保护部件本体不被腐蚀损耗的情况下，去除表面已经沉积的钛及氮化钛残膜，使其表面绝对洁净，能够达到设备腔体内的微环境使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 半导体设备 不锈钢 部件 氮化 沉积 工艺 | ||
【主权项】：
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