[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板有效

专利信息
申请号: 202010409479.X 申请日: 2020-05-14
公开(公告)号: CN111584516B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 唐甲;徐源竣 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;H01L29/417;H01L29/423;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板,该阵列基板通过使得导体化部分的宽度大于空白部分的宽度,且使得第一导体化区域与第二导体化区域接触的区域的宽度,等于导体化部分与空白部分的宽度的差值,导体化部分的宽度与空白部分的宽度的差值大于预设值,使得在空白部分被刻蚀时,导体化部分由于宽度大于空白部分,导体化部分仍然能够从空白部分两侧导通,第一导体化区域和第二导体化区域仍然能够导通,从而增大了源漏极与导体化部分的搭接面积,使得side contact达成率增大,从而使得GSD TFT正常工作,解决了现有GSD TFT存在源漏极层与IGZO搭接面积较小,导致side contact成功率较低,导致GSD TFT良率较低的技术问题。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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