[发明专利]一种半导体加工设备上的排污斗结构在审

专利信息
申请号: 202010410178.9 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111569487A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 徐俊 申请(专利权)人: 杭州易正科技有限公司
主分类号: B01D29/03 分类号: B01D29/03;B01D35/16;F16L55/027;F16L55/24
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 曹立成
地址: 310000 浙江省杭州市西*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种半导体加工设备上的排污斗结构,包括安装固定在设备上的排污管,排污管的上侧设有圆锥形的集水斗,排污管内插接有芯轴和螺旋形的缓冲带,缓冲带的内圈固定在芯轴上,缓冲带的外壁抵靠在排污管的内壁上;芯轴的上端固定在集水斗的底端,芯轴四周的集水斗上成型有若干道排水槽,所述集水斗和排污管之间设有连接套,连接套的上端固定在集水斗的外壁上,连接套下端的内壁上成型有环形的插槽,排污管的上端面上成型有环形的插管,插管插接在连接套的插槽内,连接套抵靠在排污管的上端面上。
搜索关键词: 一种 半导体 加工 设备 排污 结构
【主权项】:
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