[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010412371.6 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111987091A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 中村宏之 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能够抑制封装件的大型化,并且能够调整负反馈量的半导体装置。作为半导体装置的功率模块具有开关元件即IGBT(10)和续流二极管(FWD)(20),该续流二极管与开关元件并联连接。IGBT(10)在其表面之上具有该IGBT(10)的发射极电极(11)及栅极电极(12)、与它们绝缘的导电性图案(13)。FWD(20)在其表面之上具有该FWD(20)的阳极电极(21)和与其绝缘的导电性图案(22)。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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