[发明专利]一种多层堆叠纳米片CoS-CeO2在审

专利信息
申请号: 202010418470.5 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111632606A 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 鞠熀先;周金芝;任祥;范大伟;孙旭;匡轩;王斌;张勇;魏琴 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: B01J27/043 分类号: B01J27/043;C25B11/06;C25B1/00
代理公司: 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 代理人: 赵凤
地址: 250022 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: NH3的合成主要由传统的耗能型Haber‑Bosch工艺控制,但其有很大的弊端,排放大量的CO2造成温室效应且需要严苛的反应条件,例如高温、高压。在环境条件下的电化学氮气还原反应为我们提供了人工合成NH3的友好途径,然而对于氮气还原反应需要稳定且有效的催化剂。诸如Au,Ru,Ag和Rh的贵金属能有效的用于电解氮气还原,而这些催化剂的昂贵价格限制了它们的使用。过渡金属氧化物恰巧解决了这种昂贵性,且其无毒易制备,但随之而来的问题是其较差的导电性对催化性能产生不利影响。本发明提供了一种多层堆叠纳米片催化剂材料硫化钴氧化铈杂化物CoS‑CeO2的制备方法及其电催化氮还原应用。首先,在特制的反应溶液中加入特定比例的钴、铈试剂,利用水热合成法加热反应得到钴、铈前驱体;然后,将钴、铈前驱体置于特定氮气流速的管式炉中进行硫化处理,最终得到硫化钴氧化铈杂化物CoS‑CeO2。该CoS‑CeO2催化剂在电催化氮还原NRR领域表现出优异的催化活性,相对标准氢电极下,‑0.2 V时,氨产率达到40.6µg h–1 mg–1cat,法拉第效率达到10.2%。
搜索关键词: 一种 多层 堆叠 纳米 cos ceo base sub
【主权项】:
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