[发明专利]研磨机吸附台表面的清洁方法有效
| 申请号： | 202010443516.9 | 申请日： | 2020-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111744891B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 郭宇轩 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B1/00;B08B13/00;B24B37/28;B24B37/34;B29C35/02;B29C39/10 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 刘长春 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种研磨机吸附台表面的清洁方法，所述方法包括：向吸附台表面供应给定液体，以通过所述给定液体对所述吸附台表面的孔隙进行填充；在所述吸附台表面上浇筑聚合物，以使所述聚合物固化后包覆所述吸附台表面上的杂质颗粒；将包覆有杂质颗粒的固化聚合物从所述吸附台表面上去除。本发明的方法巧妙地利用聚合物固化的过程包覆吸附台表面的杂质颗粒，能够有效清除吸附台表面的杂质颗粒，从而改善研磨的硅片表面质量，减少硅片缺陷的产生，该方法清洁效率高，且不会对吸附台表面造成损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨机 吸附 表面 清洁 方法 | ||
【主权项】：
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