[发明专利]高穿透性液晶显示面板及制备方法有效

专利信息
申请号: 202010448499.8 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN111627929B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 罗成志 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种高穿透性液晶显示面板及制备方法,所述高穿透性液晶显示面板包括:玻璃基板、第一缓冲层、遮光层、阻挡层、第二缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、源漏级金属层以及钝化层;所述遮光层形成在所述第一缓冲层上,且所述遮光层的关键尺寸小于所述第一缓冲层的关键尺寸;其中,所述第一缓冲层、所述第二缓冲层以及所述栅极绝缘层均为高穿透性的绝缘膜。本申请实施例在有源层底部设置高穿透性绝缘膜与阻挡金属离子膜形成的叠层结构,并且将开口区的缓冲层设置为高穿透性绝缘膜,在提高液晶显示面板的透过率的同时,降低了液晶显示面板的制作成本。
搜索关键词: 穿透性 液晶显示 面板 制备 方法
【主权项】:
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